米マイクロン日本で5000億円投資

［東京　１８日　ロイター］ - 米半導体大手マイクロン・テクノロジーは１８日、日本での次世代ＤＲＡＭ生産に向けて、日本政府による支援を前提に最大５０００億円を投資すると発表した。

同社の広島工場で、ＥＵＶ（極端紫外線）技術を導入し、高度なパターニング技術を活用した次世代ＤＲＡＭの製造を行う。ＥＵＶ技術を用いた量産が実現すれば、日本初となる。